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Innovazione sostenibile, da Siena il fotovoltaico del futuro

Da Londra a Berlino, da Francoforte a Stanford, poi a Ginevra. Partendo da Siena. E rilanciando così la sfida che la provincia toscana ha colto nel precorrere i tempi della green economy anche dal punto di vista della tecnologia e del manifatturiero, laddove il territorio risulta già eccellente per sviluppo sostenibile.

Prosegue così il Roadshow internazionale di 2SN - Siena Solar Nanotech, startup che lo scorso settembre ha inaugurato la propria sede a Colle Val d’Elsa e che in questi mesi è impegnata a farsi conoscere in tutto il mondo, ottenendo forti apprezzamenti e importanti riconoscimenti.

Siena Solar Nanotech è nata grazie all’impegno del professor Carlo Taliani del CNR, Presidente dell’azienda e che ha sempre creduto, insieme a investitori senesi e toscani, in quello che si è rivelato con ragione uno dei più innovativi progetti di sviluppo sostenibile per il fotovoltaico di seconda generazione, tramite un processo produttivo che rappresenta un primato mondiale nel settore.

Si tratta della tecnologia di deposizione dei film sottili che deriva da un’idea di Organic Spintronics, spinoff del CNR di Bologna che ha poi dato vita a Siena Solar Nanotech cedendole il know-how con l’obiettivo di produrre, a livello industriale, macchinari per la produzione di pannelli fotovoltaici innovativi.

A questo scopo, Siena Solar Nanotech attua su scala industriale la deposizione di film sottili fotovoltaici attraverso la tecnica PPD (Pulsed Plasma Deposition) che sfrutta impulsi ultracorti di elettroni.

Si tratta di un procedimento che potrà permettere di ridurre drasticamente il costo dei pannelli fotovoltaici con un costo di produzione inferiore a 50 eurocent/Wp.

I materiali realizzati con questa tecnica presentano ottime caratteristiche di compattezza, uniformità e stechiometria difficilmente ottenibili con altri processi utilizzati nella produzione di film industriali.

La PPD permette inoltre di depositare film potenzialmente su qualsiasi materiale, è adatta ad essere applicata su grandi superfici, ha un’ottima velocità di deposizione e produce film cristallini anche su substrati con struttura non ordinata (vetro, plastica).
 

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